问题 更新时间2023/4/3 12:59:00 16. (问答题) 简述双阱CMOS工艺制作CMOS反相器的工艺流程过程。(本题20.0分) 答案 登录 注册 标准答案： 1、形成N阱 2、形成P阱 3、推阱 4、形成场隔离区 5、形成多晶硅栅 6、形成硅化物 7、 形成N管源漏区 8、形成P管源漏区 9、形成接触孔 10、形成第一层金属 11、形成第一层金属 12、形成穿通接触孔 13、形成第二层金属 14、合金 15、形成钝化层 16、测试、封装,完成集成电路的制造工艺 出自：青书学堂 >> 黑龙江科技大学-电路分析基础（专升本）
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